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光刻机产业链上市公司介绍

来源:乐鱼体育平台    发布时间:2025-04-26 02:24:44
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  光刻机是半导体制造中的核心设备,被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。其作用是通过光刻工艺将集成电路设计图形转移到硅片上,形成芯片的物理结构。光刻工艺决定了芯片的制程精度(如7nm、5nm等),直接影响芯片性能和集成度。

  光刻机利用光源(如紫外线、极紫外光)通过掩模版(包含电路图案)照射到涂有光刻胶的硅片上,光刻胶在曝光后发生化学变化,再通过显影、蚀刻等步骤形成电路结构。高精度光刻机(如EUV光刻机)需解决光源稳定性、光学系统精度(如反射镜)、精密运动控制等技术难题。

  光刻机产业链覆盖上游零部件、中游设备集成及下游应用,技术壁垒极高。以下为国内相关上市公司及其投资亮点:

  -核心看点:通过子公司参股上海微电子(持股10.78%),后者是国内唯一具备光刻机整机研发能力的企业,已实现90nm制程光刻机量产,并持续向更先进节点突破。

  受益于国产替代政策,上海微电子在国内市场占有率超80%,未来有望填补高端光刻机空白。

  - 技术优势:生产光刻机曝光物镜用大口径光学器件(直径达300mm),突破传统透镜尺寸和精度限制,直接服务于光刻机核心光学系统。

  - 产品布局:提供光刻机配套的大孔径光学镜头和平行光源系统,应用于光刻机检测及曝光环节,技术覆盖半导体制造全流程。

  - 国产替代:公司产品已进入国内光刻机供应链,受益于国产设备采购比例提升。

  - 国际合作:子公司UCM AG为荷兰ASML提供精密清理洗涤设施,技术获国际巨头认可,体现公司在高端设备配套领域的竞争力。

  - 国产替代潜力:清理洗涤设施是光刻机维护关键环节,未来或向国内光刻机厂商扩展合作。

  - 核心技术:生产光刻机激光光学元器件(如光场匀化器),应用于曝光系统,技术门槛高且国产化率低。

  - 行业地位:国内少数能提供光刻机核心激光元件的企业之一,受益于国产光刻机研发加速。

  -产品应用:真空与气体产品用于光刻机制造,客户包括ASML等国际厂商,具备全球化供应链能力。

  - 国产化机遇:国内光刻机设备商对高纯度材料需求提升,公司有望扩大市场份额。

  - 技术合作:与上海微电子合作开发光刻机冷却系统,但需注意其销售额占比极低(不足0.003%),业务规模较小,短期业绩贡献有限。

  - 材料突破:研发KBBF晶体等激光光源关键材料,用于光刻机准分子激光器,技术填补国内空白。

  1. 国产替代加速:荷兰扩大光刻机出口限制,倒逼国内产业链自主化,政策支持力度加大(如《首台套重大技术装备目录》纳入国产光刻机)。

  2. 技术突破预期:国产65nm光刻机已实现突破,未来或向更高制程演进,相关零部件厂商率先受益。

  3. 市场需求强劲:全球晶圆厂扩产带动设备开支增长,光刻机需求持续提升,国内厂商有望分羹千亿市场。

  风险提示:部分公司业务占比较低(如海立股份)、技术研发没有到达预期、国际供应链波动等需重点关注。

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